一种剥离法制备氮化硼纳米片的方法

1.一种剥离法制备氮化硼纳米片的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

(1)球磨剥离：将六方氮化硼h‑BN、配位聚合物CPs进行球磨，所述CPs为在球磨作用下发生固‑液转相的体系；

(2)超声：将球磨后得到的混合物分散在有机溶剂中，超声处理；

(3)收集：一次离心得到氮化硼纳米片的有机溶剂分散液；二次离心得固相，干燥后收集得到氮化硼纳米片BNNS。

2.根据权利要求1所述的剥离法制备氮化硼纳米片的方法，其特征在于，步骤(2)中，所述CPs包括但不限于[Zn(HPO4)(H2PO4)]2(imH2)2、[M(1，2，4‑triazole)(H2PO4)2]、ZIF‑4、Zn‑ZIF‑62、Co‑ZIF‑62、ZIF‑76、ZIF‑76‑mbim、Cu(isopropylimidazolate)、[Zn3(H2PO4)6(H2O3)]·bimH、[Zn3(H2PO4)6(H2O3)]·H(2Mebim)、[Zn2(HPO4)2(H2PO4)(5ClbimH)2](H2PO4)(MeOH)、[Cd3(SCN)2Bt6(C2H9N2)2]、[Cu2(SCN)3(C2bpy)]、[Cu2(SCN)3(C4bpy)]、[Cu2(SCN)12(Phbpy)4]、[Cu2(SCN)3(3‑Pybpy)]、(1‑butyl‑4‑methylpyridinium)[Cu(SCN)2]中的至少

2+ 2+ 2+ 2+

一种，其中，M包括Zn ，Cd ，Cr ，Mn 中任意一种，im＝咪唑，bim＝苯并咪唑，triazole＝三氮唑，5‑Clbim＝5‑氯苯并咪唑，2Mebim＝2‑甲基苯并咪唑，C2bpy＝1‑乙基联吡啶，C4bpy＝

1‑丁基联吡啶，Phbpy＝1‑苯基联吡啶，3‑Pybpy＝三联吡啶，isopropylimidazolate＝异丙基咪唑，methylpyridinium＝甲基吡啶，mbim＝5‑甲基苯并咪唑，1‑butyl‑4‑methylpyridinium＝1‑丁基‑4‑甲基吡啶。

3.根据权利要求1所述的剥离法制备氮化硼纳米片的方法，其特征在于，步骤(1)中，所述六方氮化硼h‑BN、配位聚合物CPs的质量比为1∶0.1‑0.5。

4.根据权利要求1所述的剥离法制备氮化硼纳米片的方法，其特征在于，步骤(1)中，所述球磨的速度为300‑600rpm，所述的球磨的时间为2‑24h。

5.根据权利要求1所述的剥离法制备氮化硼纳米片的方法，其特征在于，步骤(2)中，将球磨后得到的混合物以1‑10mg/ml的浓度分散在有机溶剂中，所述有机溶剂包括乙醇、异丙醇、N，N‑二甲基甲酰胺、N‑甲基吡咯烷酮其中任意一种；所述超声处理的时间为1h，所述超声处理的功率为100W。

6.根据权利要求1所述的剥离法制备氮化硼纳米片的方法，其特征在于，步骤(3)中，所述一次离心的速度为1000‑3000rpm，离心时间为10‑30min。

7.根据权利要求1所述的剥离法制备氮化硼纳米片的方法，其特征在于，步骤(3)中，所述二次离心的速度为9000‑12000rpm，离心时间为10‑30min。

8.一种氮化硼纳米片，其特征在于，根据权利要求1‑7任一所述的方法制备。

9.根据权利要求8所述的氮化硼纳米片，其特征在于，所述氮化硼纳米片的横向尺寸为

3‑5μm，有30‑40％的氮化硼纳米片横向尺寸为5μm；所述氮化硼纳米片的边缘发生卷曲，所述氮化硼纳米片的厚度为1‑5nm。

10.根据权利要求8或9所述的氮化硼纳米片的用途，其特征在于，所述氮化硼纳米片作为无机填料制备导热电绝缘聚合物，包括但不限于应用于航空航天、5G基站、小型电子设备领域。