天大张翔等综述：六方氮化硼/金属体系的界面工程——从原位生长到金属基复合材料

信息来源：本站 | 发布日期： 2025-09-07 09:55:28 | 浏览量：331870

摘要：

六方氮化硼（h-BN）具有独特的物理化学性质，其与金属形成的界面是发展新一代电子器件、催化剂及高性能复合材料的关键。近日，天津大学张翔教授等人在Science China Materials发表综述论文，聚焦h-BN/金属体系的界面工程，系统解析原位生长与外源复合两种主要技术路径的界…

六方氮化硼（h-BN）具有独特的物理化学性质，其与金属形成的界面是发展新一代电子器件、催化剂及高性能复合材料的关键。

近日，天津大学张翔教授等人在Science China Materials发表综述论文，聚焦h-BN/金属体系的界面工程，系统解析原位生长与外源复合两种主要技术路径的界面特性。

本文要点

1) 在金属基底表面原位生长h-BN薄膜的过程中，金属基底与生长条件通过界面耦合作用对薄膜质量产生多维度的调控作用。

2) 在外加法制备h-BN/金属复合材料的过程中，界面结构由h-BN维度、基体特性与制备工艺协同决定。

本文旨在阐明h-BN/金属界面调控的基本原理与独特机制，为设计与优化先进h-BN基功能器件及复合材料提供策略性指导。

Figure 1. Schematic illustration of typical BN polymorphs and h-BN nanostructures of different dimensions.

Figure 2. Interfacial bonding modes of h-BN with different metals.

Figure 3. Schematic diagram illustrating the preparation processes for BN/Metal matrix.

Figure 4. Schematic diagram of the applications of the h-BN/metal interface in multiple fields.

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