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研究发现六方氮化硼并不适合用作微型场效应晶体管的绝缘体
信息来源:本站 | 发布日期: 2021-03-15 12:55:31 | 浏览量:760748
几十年来,微电子技术的发展趋势是晶体管越来越小,越来越紧凑。石墨烯等二维材料在这里被视为希望的灯塔:它们是可能存在的最薄的材料层,只由一个或几个原子层组成,但是,它们可以传导电流。另一方面,如果硅层变得太薄,传统的硅技术就不能正常工作。然而,这类材料不…
漏电流小影响大
晶体管只能比作水龙头而不是水流,电流是开和关的。与水龙头一样,对晶体管来说,阀门本身没有泄漏是非常重要的。
这正是栅极绝缘体在晶体管中所起的作用:它将控制电极与半导体通道本身隔离开来,通过控制电极可以打开和关闭电流,然后电流通过半导体通道流动。一个现代微处理器包含大约500亿个晶体管,所以即使是门极上的一点电流损耗也可以发挥巨大的作用,因为它显著地增加了总能耗。
在这项研究中,研究小组通过实验和理论计算研究了流过薄hBN层的泄漏电流。他们发现,使hBN成为合适衬底的一些特性也显著增加了通过hBN的漏电流。氮化硼的介电常数很小,这意味着这种材料与电场的相互作用很弱。因此,微型晶体管中使用的hBN层必须只有几个原子层厚,这样栅极的电场才能充分控制沟道。然而,与此同时,在这种情况下,泄漏电流变得过大,因为当减小层厚度时,泄漏电流呈指数增长。
寻找绝缘体
“我们的结果表明,hBN不适合作为基于2D材料的小型晶体管的栅绝缘体。”Tibor Grasser说这一发现对今后的研究具有重要的指导意义,但它只是为最小的晶体管寻找合适绝缘体的开始。目前,没有任何已知的材料体系能够满足所有要求,但找到合适的材料体系只是时间和资源问题。
特雷西亚·诺布洛赫坚信:“这个问题很复杂,但这使得许多科学家致力于寻找解决方案变得更加重要,因为我们的社会在未来将需要小型、快速、最重要的是节能的计算机芯片。”
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