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氮化硼用于等离子腔体

信息来源:本站 | 发布日期: 2021-01-21 14:34:09 | 浏览量:151

摘要:

氮化硼陶瓷通过热压制成。这种工艺利用高达2000C (3632F)的温度和高压有道氮化硼粉末烧结成为一个大的紧实块体,称作坯料。这些氮化硼坯可以轻易地被加工成型并且精密加工成复杂地形状和光滑地表面。不用青料烧结,研磨,抛光地易加工性使得许多高级工程领域的原型制作,…

氮化硼陶瓷通过热压制成。这种工艺利用高达2000°C (3632°F)的温度和高压有道氮化硼粉末烧结成为一个大的紧实块体,称作坯料。这些氮化硼坯可以轻易地被加工成型并且精密加工成复杂地形状和光滑地表面。不用青料烧结,研磨,抛光地易加工性使得许多高级工程领域的原型制作,设计更改和认证周期都更加容易和快速。除了许多高级陶瓷所共有的热机械和电气特性外,BN 在等离子体环境中的独特之处在于,即使在存在强电磁场的情况下,它还是对溅射的抵抗力和低二次离子生成倾向。抗溅射有助于延长组件的使用寿命,而低二次离子生成有助于保持等离子体环境的完整性。
它已被作为高级绝缘体用于各种薄膜涂层工艺,如等离子体增强的物理气相沉积 (PVD)。氮化硼陶瓷还用于提高轨道卫星上霍尔效应推进器的性能和服务长度。
氮化硼陶瓷用于物理气相沉积
物理气相沉积是指用于各种材料的表面工程的多种真空薄膜涂层方法。PVD 涂层方法采用多种方法之一,将目标材料生成并沉积到基板表面,包括溅射沉积,PVD 涂层方法通常用于光电子器件的制造、汽车和航空航天的精密部件等。
溅射是一个独特的过程,通过持续的等离子轰击,粒子被强行从目标材料中喷出。氮化硼陶瓷广泛用于将溅射室中的等离子弧约束到目标材料上,并防止工艺室中整体部件的侵蚀。

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