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张道礼教授团队在六方氮化硼储氢研究中取得重要进展
信息来源:本站 | 发布日期: 2019-06-29 13:24:29 | 浏览量:1524569
6月27日,Nature Communications期刊在线发表了光学与电子信息学院张道礼教授课题组与^科学院上海微系统研究所王浩敏研究员课题组合作的题为“Isolating hydrogen in hexagonal boron nitride bubbles by a plasma treatment”的研究成果。光学与电子信息学院2015级博…
该研究^提出了将等离子体技术与六方氮化硼(h-BN)相结合能够从碳氢化合物中提取出氢气并将其隔离存储在h-BN的层间间隔中,为微纳尺度领域的氢提取及氢存储技术提供了新的思路方案。
研究成果在Nature Communications期刊在线发表
六方氮化硼(h-BN)是一种结构和石墨烯类似的六方晶系二维层状晶体材料,不同的是它由硼、氮两种元素交替组成晶体结构,层间依旧是依靠范德华力(van der Waals Force)紧密结合。更重要的是,h-BN是现已知所有二维材料中^的绝缘材料,被公认为电子器件理想的衬底和隧穿势垒材料,并拥有极好的耐高温、抗氧化性能。研究人员在不经意间发现一个有趣的现象,当采用微弱功率的射频线圈将氩气、氧气以及氢气分别裂解成等离子体对h-BN表面进行处理后,只有被氢气等离子体(H-Plasma)处理过的表面会产生气泡结构,而另外两种等离子体所处理过的样品表面则几乎没有任何变化(见下图)。
轻微的Ar,O2,H2Plasma处理对h-BN表面的影响
更有趣的是,随后研究人员发现当采用甲烷(见下图)、乙炔以及氩氢混合气的等离子体对h-BN样品进行处理后都能使之表面形成尺寸可控的微米级气泡。经过一系列深入的分析表征后,研究人员证明了h-BN结构的完整性以及气泡内所存储的正是氢气。
通过CH4-Plasma处理将H2提取并分离存储在h-BN层间
据悉,该研究工作的合作单位还有维也纳大学、日本国家材料科学研究所等,工作获得了国家重点研发计划、国家自然科学基金面上项目等资助。
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